作業計画・作成状況　改正　基盤技術

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PS-030-0140

作業計画・作成状況

2026 年 02 月 03 日現在
規格番号	規格名称	ICS番号	作業段階	対応国際規格	作成団体	担当窓口
A0204	地質図－記号，色，模様，用語及び凡例表示		1		国立研究開発法人　産業技術総合研究所	a
A0205	ベクトル数値地質図－品質要求事項及び主題属性コード		1		国立研究開発法人　産業技術総合研究所	a
B7502	製品の幾何特性仕様（ＧＰＳ）－寸法測定器－マイクロメータ	17.040.30	3	ISO 3611	日本精密測定機器工業会	a
B7524	すきまゲージ		1		日本精密測定機器工業会	a
B7525-1	浮ひょう－第１部：密度浮ひょう	17.060	4	ISO 387	一般社団法人日本計量機器工業連合会	a
B7525-3	浮ひょう－第３部：浮ひょう型比重計	17.060	4	ISO 387	一般社団法人日本計量機器工業連合会	a
B7607	自動捕捉式はかり	17.060;17.100	4	OIML R 51-1	一般社団法人日本計量機器工業連合会	a
B7610	重錘形圧力天びん	17.060	5	OIML R110	（認）一般財団法人日本規格協会	a
B7616	重錘形圧力天びんの使用方法及び校正方法	17.060	5		（認）一般財団法人日本規格協会	a
B7726	ロックウェル硬さ試験－試験機及び圧子の検証及び校正		2		（認）一般財団法人日本規格協会	a
B7730	ロックウェル硬さ試験－基準片の校正		2		（認）一般財団法人日本規格協会	a
B7755	金属材料のシャルピーＶノッチ衝撃試験－計装化シャルピー衝撃試験機	77.040.10	5	ISO 14556	一般社団法人日本試験機工業会	a
K0148	表面化学分析－全反射蛍光Ｘ線分析法（ＴＸＲＦ）によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法	71.040.40	5	ISO 14706	一般社団法人表面化学分析技術国際標準化委員会	a
K0160	表面化学分析－シリコンウェーハ表面からの金属の化学的回収方法及び全反射蛍光Ｘ線（ＴＸＲＦ）分析法による定量方法	71.040.40	5	ISO 17331,ISO 17331 Amendment 1	一般社団法人表面化学分析技術国際標準化委員会	a
P8113	紙及び板紙－引張特性の試験方法－第２部：定速伸張法（２０ｍｍ／ｍｉｎ）	85.060	4	ISO 1924-2	紙パルプ技術協会	a
P8223	パルプ－試験用手すき紙－物理的特性の試験方法		1		紙パルプ技術協会	a
Z2371	塩水噴霧試験方法		1		公益財団法人　スガウェザリング技術振興財団	a
Z6016	文書の受領プロセス	01.140.30;35.240.30	4		公益社団法人　日本文書情報マネジメント協会	a
Z8820-1	液相重力沈降法による粒子径分布測定方法－第１部：測定の一般原理及び指針		1		一般社団法人　日本粉体工業技術協会	a
Z8823-1	液相遠心沈降法による粒子径分布の測定方法－第1部：一般原理、要求事項及び指針		1		一般社団法人　日本粉体工業技術協会	a
Z8829	液中分散粒子の粒子径分布及び個数濃度解析[粒子径解析－粒子軌跡解析（ＰＴＡ）法]		1		一般社団法人　日本粉体工業技術協会	a
Z8830	ガス吸着による粉体（固体）の比表面積測定方法	19.120	3	ISO 9277	一般社団法人　日本粉体工業技術協会	a
Z8832	粒子径分布測定方法－電気的検知帯法	19.120	3	ISO 13319-1	一般社団法人　日本粉体工業技術協会	a
Z9020-2	管理図－第２部：シューハート管理図	03.120.30	5	ISO 7870-2	（認）一般財団法人日本規格協会	a

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作業計画・作成状況 改正 基盤技術

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